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產品技術
產業化應用中心
iSparol? 系列卷對卷原子層沉積系統
基于自主研發，將超大空間型ALD 鍍膜技術與真空卷對卷技術結合，開發大型卷對卷原子層沉積鍍膜平臺。其中平臺集成超大型平面原子層沉積 (ALD) 系統，并開發滿足產業化量產的成熟工藝材料體系，實現在超大寬幅柔性基材上制備高阻隔膜的整體解決方案。經過多年產業化驗證和裝備升級已經迭代到二代產品。并獲得客戶驗收和多臺重復訂單交付。
銷售郵箱
產品特點
適用于各種高分子材料、柔性薄膜電池、柔性器件等柔性基底，例如PET\PEN\PI\EVOH等
1
適用基底尺寸：厚度兼容50~250um，寬幅≤1.5m，常用尺寸卷徑150mm，整卷外徑≤800mm，可客戶定制
2
制備氧化鋁（AlOx）及氧化鋁疊層材料等高質量致密氧化物薄膜，實現WVTR≤10—3g/㎡.day
3
適配于大面積柔性襯底實現連續卷對卷鍍膜，生產節拍2m/min
4
前臺熱線：
0510-81975900
公司地址：
江蘇省無錫市新吳區長江南路27號
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